發(fā)布時(shí)間：2026年04月11日 14:08 來(lái)源：中國(guó)新聞網(wǎng)
4月10日，浙江大學(xué)極端光學(xué)技術(shù)與儀器全國(guó)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室在杭州舉辦成果發(fā)布會(huì)，宣布成功研發(fā)萬(wàn)通道3D納米激光直寫(xiě)光刻機(jī)，為超分辨光刻、光子芯片制造、高端掩模版加工等領(lǐng)域提供關(guān)鍵技術(shù)支撐。
據(jù)悉，該激光直寫(xiě)光刻機(jī)的加工精度可達(dá)亞30納米，加工速率可達(dá)42.7平方毫米/分鐘，最大刻寫(xiě)尺寸覆蓋12 英寸硅片，為大面積微納結(jié)構(gòu)的高通量、高精度制造提供了新途徑。(吳君毅 莊蕙語(yǔ))
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